微影制程之《MaskReticle》篇（转） | 台灣上市公司查詢站

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2022年6月8日 — A mask or reticle (sometimes photomask and photoreticle) is a pattern transferring device used in the fabrication of microelectronic for pattern ...

光掩模（英语：Reticle, Mask）：在制作集成电路的过程中，利用光刻蚀技术，在半导体上形成图型，为将图型复制于晶圆上，必须透过光掩模作用的原理。比如冲洗照片 ...

Pellicle · 光罩. 光罩. Reticle Mask. 詳細介紹. Size, Thickness, Material, Spec. Capability. 3 x 5, 0.09, Quartz, 0.5 ± 0.05um. 5 x 5, 0.09. 6 x 6, 0.25 ...

光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。比如沖洗照片時 ...

光罩（英文：Reticle, Mask），在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似於沖洗照片時， ...

光罩傳送盒/ 光罩自動化傳輸盒/ Reticle SMIF Pod / RSP150，高潔淨度可杜絕空氣中的汙染，確保6吋光罩在製程站間運送與儲存的安全防護，應用於自動化曝光機台。 另區分 ...

2019年6月14日 — 光罩(土话叫光刻版)，英文名叫Mask，也叫Reticle(因为早期的对位是十字线)。通常有5寸和6寸两种大小，5寸光罩主要用于5寸和6寸的FAB生产线，而6寸光罩主要 ...

5X , 4X , 2.5X , 2X , Reticle for stepper. Reticle Material · 1X Photomask (PE / MPA). Reticle Material · 1X Photomask (PLA) · UT 1X Reticle · Large Area Mask (LAM) ...