光掩模

光掩模(英语:Reticle,Mask):在制作集成电路的过程中,利用光刻蚀技术,在半导体上形成图型,为将图型复制于晶圆上,必须透过光掩模作用的原理。比如冲洗照片 ...

光掩模

光掩模(英语:Reticle, Mask):在制作集成电路的过程中,利用光刻蚀技术,在半导体上形成图型,为将图型复制于晶圆上,必须透过光掩模作用的原理。比如冲洗照片 ...

相關分類資訊

【光罩】台灣光罩股份有限公司普通股每股面額多少?統一編號:22099408

以下是光罩上市公司詳細基本資料,包含公司名稱、公司簡稱、產業別、住址、營利事業統一編號、董事長、總經理、普通股每股面...