IC光罩應用介紹及其未來發展

光罩製作流程與IC的微影製程類.似,惟其前段之資料處理及後段檢驗有.所不同,目前光罩之尺寸以5吋及6吋石.英(Quartz)的基材為主,光罩圖形讀寫機.(Maskpatternwriter) ...

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